Mahalliy vaqt bilan 9-sentabr kuni Intel bosh direktori Kissinger AQShning Ogayo shtatida yangi yirik gofret zavodi qurish uchun 20 milliard dollar sarmoya kiritishini ma’lum qildi.Bu Intelning IDM 2.0 strategiyasining bir qismidir.Barcha investitsiya rejasi 100 milliard dollarni tashkil etadi.Yangi zavod 2025 yilda ommaviy ishlab chiqarilishi kutilmoqda. O'sha paytda "1,8 nm" jarayoni Intelni yarimo'tkazgichlar bo'yicha yetakchi pozitsiyasiga qaytaradi.
O'tgan yilning fevral oyida Intel bosh direktori bo'lganidan beri Kissinjer Qo'shma Shtatlar va butun dunyo bo'ylab zavodlar qurilishini faol ravishda qo'llab-quvvatladi, ulardan kamida 40 milliard AQSh dollari AQShga sarmoya qilingan.O'tgan yili u Arizona shtatida gofret ishlab chiqaruvchi zavod qurish uchun 20 milliard dollar sarmoya kiritgan.Bu safar u Ogayo shtatiga 20 milliard dollar sarmoya kiritdi va Nyu-Meksikoda yangi muhrlash va sinov fabrikasini qurdi.
Intel ikkita chip ishlab chiqaruvchi zavod qurish uchun yana 20 milliard dollar sarmoya kiritadi."1.8nm" texnologiyasining qiroli qaytadi
Intel zavodi, shuningdek, 52,8 milliard AQSh dollari miqdoridagi chip subsidiyasi loyihasi qabul qilingandan so'ng, Qo'shma Shtatlarda yangi qurilgan yirik yarimo'tkazgich chiplari zavodidir.Shu sababli ochilish marosimida AQSh prezidenti, shuningdek, Ogayo gubernatori va mahalliy departamentlarning boshqa yuqori mansabdor shaxslari ham ishtirok etdi.
Intel ikkita chip ishlab chiqaruvchi zavod qurish uchun yana 20 milliard dollar sarmoya kiritadi."1.8nm" texnologiyasining qiroli qaytadi
Intel chip ishlab chiqarish bazasi sakkiztagacha zavodni sig'dira oladigan va ekologik yordam tizimlarini qo'llab-quvvatlaydigan ikkita gofret zavodidan iborat bo'ladi.U qariyb 1000 akr, ya'ni 4 kvadrat kilometr maydonni egallaydi.Bu 3000 ta yuqori maoshli ish o'rni, 7000 ta qurilish ishlari va o'n minglab ta'minot zanjiri kooperatsiyasi bo'yicha ish o'rinlarini yaratadi.
Ushbu ikkita gofret zavodi 2025-yilda ommaviy ishlab chiqarishi kutilmoqda. Intel zavodning jarayon darajasini alohida tilga olmadi, biroq Intel avvalroq 4 yil ichida 5-avlod protsessor jarayonini o‘zlashtirishini va 20a-ni ommaviy ishlab chiqarishini aytgan edi. va 2024 yilda 18a ikki avlod jarayonlari. Shuning uchun bu yerdagi zavod o'sha vaqtga qadar 18a jarayonini ham ishlab chiqishi kerak.
20a va 18a do'stlarning 2nm va 1,8nm jarayonlariga ekvivalent bo'lgan EMI darajasiga erishgan dunyodagi birinchi chip jarayonlari.Ular, shuningdek, ikkita Intel qora texnologiya texnologiyasini, lenta FET va powervia-ni ishga tushiradilar.
Intel ma'lumotlariga ko'ra, ribbonfet Intelning tranzistorlar atrofidagi eshiklarni amalga oshirishidir.Bu kompaniya FinFET-ni 2011-yilda ishga tushirganidan beri birinchi yangi tranzistor arxitekturasiga aylanadi. Bu texnologiya tranzistorning almashinish tezligini tezlashtiradi va ko'p qanotli tuzilma bilan bir xil harakat oqimiga erishadi, lekin kamroq joy egallaydi.
Powervia Intelning noyob va sanoatdagi birinchi orqa elektr uzatish tarmog'i bo'lib, u quvvat manbaiga ehtiyojni yo'qotib, signal uzatilishini optimallashtiradi.
Yuborilgan vaqt: 2022 yil 12 sentyabr